风格迁移重大突破!西湖大学等提出StyleStudio攻克「过拟合」难题 CVPR 2025

西湖大学等团队提出StyleStudio,通过跨模态AdaIN技术、教师模型稳定布局及基于风格的无分类器引导,有效解决文本驱动风格迁移中的对齐问题、布局不稳定和模糊性等问题,提升生成图像质量和稳定性。